| AT-M3 |
금 변색 방지 |
- 금, 은, 니켈 도금 표면의 산화 및 변색 방지를 위한 약품
- 장식품, 커넥터, 접점 등의 변색방지에 최적이고 금 봉공 처리제로도 사용할 수 있으며 커넥터 등의 연속공정의 변색방지 처리에 적합
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- 휘발성이 없는 수용성으로서 중금속이 포함되어 있지 않음
- 전기 전도성 및 납 땜성에 영향을 미치지 않음
- 수세에 의한 도금 표면 얼룩이나 자국 등의 외관 불량이 없음
- 열 및 습기에 매우 강함
- 액 수명이 길고 running cost가 적음
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| STP-100 |
철강재 화학 연마 |
- 철강재의 화학연마제로서 소재 표면이 밝은 고광택의 평활한 표면을 제공함과 동시에 표면의 청결과 침의 제거를 행할 수 있는 화학 연마제
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- 전해 세정과 화학연마의 2가지 기능을 갖고 있어서 소재 표면의 용해 작용과 스머트의 제거 가능
- 철강의 기계가공 시 발생하는 침을 선택적으로 용해시킴과 동시에 표면 연마
- 복잡한 형상의 부품도 균일하고 간편하게 연마
- 표면 공차 편차가 거의 없어서 정밀을 요하는 부품에 적합
- 스테인리스와 탄소량 1% 이상의 철강을 제외한 나머지 철강에 사용 가능
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| OMC-EC |
OLED 마스크 전해 세정 |
- 알칼리계 세정제로서 OLED Mask의 이물질을 신속하고 빠르게 제거
- 세정 후 Mask에 오염이 없으며 어떠한 영향도 주지 않음
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- 알칼리계 세정제로 이물질을 신속하고 빠르게 제거
- 염 석출이 낮아 Mask뿐만 아니라 Bath 주변을 오염시키지 않음
- 전해법, 침적법 모두 사용 가능하고 특히 전해법에서 효과가 월등
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| PMC-1000 |
그라스 포토 마스크 세정 |
- Glass Mask에 달라붙은 입자 (먼지, 건조된 PR 등), 지문 (오일, 염분, 기타 오염물질 등), 가공 입자 (금속, 산화물 또는 기타 가공 오염물 등), 유기 잔류 물질 (불안전하게 제거된 PR, 용매, 그리스 등)을 제거하는데 최적화된 세정제
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- 입자, 지문, 가공 입자, 유기 잔류 물질 등을 제거하는데 탁월한 효과를 발휘
- 피라냐 용액에 비해 보다 더 안전하여 피라냐 용액의 대체품으로 적합
- 세정 후 DI 세정성이 우수
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| MICCROSHIELD |
TOLBER 마스킹 |
- 각종 도금 및 금속표면처리의 마스킹 용으로 사용되는 Tolber Chemical 제품
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- 마크킹이 뛰어남
- 용제로 쉽게 제거할 수 있음
- 금속표면처리 용도별로 다양하게 있음
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| XP-2000 |
한국 공식대리점 |
- 각종 도금 및 금속표면처리의 마스킹 용으로 사용되는 Tolber Chemical 제품
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- 마크킹이 뛰어남
- 용제로 쉽게 제거할 수 있음
- 금속표면처리 용도별로 다양하게 있음
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