PMC-1000

프로세스

  • 그라스 포토 마스크 세정

설명

  • Glass Mask에 달라붙은 입자 (먼지, 건조된 PR 등), 지문 (오일, 염분, 기타 오염물질 등), 가공 입자 (금속, 산화물 또는 기타 가공 오염물 등), 유기 잔류 물질 (불안전하게 제거된 PR, 용매, 그리스 등)을 제거하는데 최적화된 세정제

장점

  • 입자, 지문, 가공 입자, 유기 잔류 물질 등을 제거하는데 탁월한 효과를 발휘
  • 피라냐 용액에 비해 보다 더 안전하여 피라냐 용액의 대체품으로 적합
  • 세정 후 DI 세정성이 우수